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產(chǎn)品展示/ Product display

  • GMD2000鋰電池三元研磨分散機(jī)

    鋰電池三元研磨分散機(jī),結(jié)合多家著名鋰電池正極材料廠家,分析可知:如果在砂磨機(jī)研磨細(xì)化后,漿料再經(jīng)過(guò)研磨分散機(jī),進(jìn)行分散,漿料的粒徑可以wan全還原,解決團(tuán)聚的問(wèn)題。利用研磨分散機(jī),先將鋰電池漿料的團(tuán)聚體打開(kāi),然后再進(jìn)行分散,最終獲得高品質(zhì)的鋰電池正極漿料。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000光觸媒高速研磨分散機(jī)

    光觸媒高速研磨分散機(jī),應(yīng)對(duì)納米級(jí)物料的分散,研發(fā)出新型設(shè)備,高剪切研磨分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備,納米級(jí)漿料進(jìn)入研磨分散后,先進(jìn)行研磨將團(tuán)聚體打開(kāi),然后再經(jīng)過(guò)分散工作組,進(jìn)行分散,避免再次團(tuán)聚。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000硫酸鋇研磨高速分散機(jī)

    硫酸鋇研磨高速分散機(jī),對(duì)于硫酸鋇溶液的生產(chǎn),目前許多廠家采用國(guó)產(chǎn)膠體磨生產(chǎn),由于國(guó)產(chǎn)膠體磨本身轉(zhuǎn)速較低為2930轉(zhuǎn),生產(chǎn)出來(lái)的硫酸鋇溶液粒徑一般在20μm左右,而且生產(chǎn)效果很低,需要研磨5-6小時(shí)。而使用SGN研磨分散機(jī)進(jìn)行處理,研磨兩遍,粒徑可以細(xì)化到5μm,效果好,效率高。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000石蠟粉研磨高速分散機(jī)

    石蠟粉研磨高速分散機(jī)是石蠟加工核心設(shè)備,專注石蠟粉細(xì)化與分散,適配橡塑、涂料、潤(rùn)滑材料等生產(chǎn)場(chǎng)景。高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生強(qiáng)剪切力,實(shí)現(xiàn)石蠟粉高效研磨,窄化粒徑分布。提升粉體分散均勻性,避免團(tuán)聚,保障后續(xù)加工適配性。

    更新時(shí)間

    2025-11-17

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  • GMD2000陶瓷隔膜漿料研磨分散設(shè)備

    陶瓷隔膜漿料研磨分散設(shè)備是制備高性能陶瓷隔膜的核心設(shè)備,主要用于將陶瓷粉體、粘結(jié)劑等物料均勻分散并細(xì)化。

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    2025-11-17

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  • GMD2000胃溶性包衣高速研磨分散機(jī)

    胃溶性包衣高速研磨分散機(jī)GM2000采用了三級(jí)錯(cuò)齒磨頭定轉(zhuǎn)子,磨頭定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.7之間,間隙可通過(guò)調(diào)節(jié)高速研磨機(jī)本身的調(diào)節(jié)柄來(lái)調(diào)節(jié)設(shè)備間隙,在轉(zhuǎn)速不變的情況下,間隙越小,速膠體磨研磨、分散效果會(huì)越好。

    更新時(shí)間

    2025-11-14

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  • GMD2000納米碳管三級(jí)研磨分散機(jī)

    納米碳管三級(jí)研磨分散機(jī)是新材料領(lǐng)域?qū)S迷O(shè)備,針對(duì)納米碳管易團(tuán)聚特性,通過(guò)三級(jí)遞進(jìn)式研磨與剪切技術(shù),實(shí)現(xiàn)顆粒高效解聚、均勻分散。設(shè)備分散精度高、穩(wěn)定性強(qiáng),能精準(zhǔn)控制粒徑,保留材料原有性能,適配規(guī)?;a(chǎn),助力提升納米碳管復(fù)合材料的導(dǎo)電、力學(xué)等綜合性能。

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    2025-11-13

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  • GMD2000頭bao氨芐膠囊研磨分散機(jī)

    頭bao氨芐膠囊研磨分散機(jī)是一款針對(duì)頭bao氨芐膠囊的專用設(shè)備,核心用于將膠囊內(nèi)容物研磨至均勻細(xì)粉并高效分散。設(shè)備具備研磨精度高、分散效果好的特點(diǎn),操作便捷且運(yùn)行穩(wěn)定,能保障物料活性與純度,適配制藥領(lǐng)域小批量或中試生產(chǎn)需求,助力提升制劑生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。

    更新時(shí)間

    2025-11-13

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